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  关于双年奖    
  国际商标标志双年奖 INTERNATIONAL LOGO BIENNIAL AWARDS CHINA  
     
   CCII国际设计中心、首都企业形象研究会,是国际平面设计社团协会(ICOGRADA)在中国地区主要协会成员,自97年创建以来,致力于视觉形象领域的国际交流与研  
   究推广,分别在北京、上海等地成功举办LOGO1998、LOGO2000、LOGO2002、LOGO2004、LOGO2006、LOGO2008、LOGO2010、LOGO2012八届国际商标节,第九届国际商标  
   节,即LOGO2014。秉承CCII“创意为公,设计立国”的理念,秉持创意、创新、公平、公正的原则,继续新一轮的创意征稿,欢迎各界人士积极参与,共襄盛举。  
   
   两年一度的国际商标标志双年奖是ICOGRADA认可的国际性设计奖项,也是商标节的重要活动之一。历届评审团均由国际著名设计大师组成,其中有ICOGRADA前主席  
   海尔穆特·朗格、AGI前主席石汉瑞、美国分会主席斯蒂夫·盖斯布勒、瑞士分会主席尼古拉斯·特罗斯勒、法国AGI成员吕迪·鲍尔、中国AGI会员余秉楠、靳埭强  
   阿根廷平面协会主席巴布罗·康斯特、香港设计师协会前任主席刘小康、纽约艺术指导协会(ADC)评委王序等。他们的评选结果代表了当今世界视觉识别设计领域  
   极高水准,使一批优秀的设计师脱颖而出,并将他们的视觉能量传播给世界。评选将严格遵循双年奖的评选的三大原则进行:作品的原创性、艺术上的完美性、准确
 
   性、准确传达内容。  
     
   本届双年奖所有参赛作品创作时间限定为2004年至2014年,获奖作品将入选《LOGO2014国际商标标志双年奖年鉴》,并将在国际设计网及相关的宣传资料中刊登。评  
   选结束后,作品将随ADC获奖作品在全国20多个城市巡回展出,更将通过ICOGRADA在各国的设计组织与其他国家进行设计交流展览。  
 
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